第3679章 赵长安为什么选择5500（1/2）

赵长安点点头，TWINS AT:750T使用的是波长为248n的KrF光源（氟化氪激光）系统，支持最小工艺制程130n生产，优势就是TWINS系统的双晶圆平台，工作效率大幅度提升。

PAS5500目前使用的有i-le光源（高压汞灯）365n，最小工艺制程800-250n，248n的KrF激光光源，最小工艺制程到180-130n。

两者之间的区别就是TWINS AT:750T的工作效率更高，不过价格更贵，整机架构更加的精密复杂，零件更多。

可以想见的是，下一步ASML肯定是要把TWINS AT向上和向下带入365纳米i-le光源，193nArF（氟化氩）光源领域，形成一个系统性的光源跨度，满足用户不同的芯片制程需求。

不过既然PAS5500既然已经有了足够的光源跨度和诸多型号，而且有了十年不断的技术完善和稳定性的证明，就算单机效率低一点赵长安也能忍受。

单机效率低多买几台就行了，而且真要是订单够多，可以让工人三班倒，人有多大胆地有多大产办法总比困难多。

看看萧扬明说的5500今年没货，750的订单却只是排到今年五月，赵长安就知道这些资本家们哪一个都是贼精明，毕竟相比已花更多的钱购买昂贵的机器，不如花小钱给工人开工资划算。

而实际上在赵长安的前一世，ASML凭借着5500从一个濒临破产倒闭的企业，一直干到行业第二，直到06年全球首台浸没式光刻机TWINS XT:1700i，193n光刻机，最小工艺制程到45n，上市量产，才逐步停产利润太低的PAS5500系列，而5500经过了十六七年的不断的研发迭代，已经有了十几个型号。

ASML的TWINS AT系统双晶圆平台，在目前的制程工艺里面，并没有足够的性价比优势，因为现在即使ASML收购了SGV，然而依然有着Nikon和这两家强大的步进式光刻机企业，可以提供同类的产品。

无论是G-le436n光源，还是I-le，KrF，这三家企业对市场份额的争夺一直都比较激烈。

况且在G-le，I-le领域，除了这三家企业，Hitachi（日立），ABM，eology（东芝下属企业纽富来），TEL（东京电子），Sharp，——也都有着成熟的步进式光刻机售卖。

这里面ABM成立于1986年，总部位于美国硅谷San Jose，一纳米江城研究院去年年初购买的一台G-le光源步进式光刻机，就是从ABM购买，目前产品涵盖了G-le，I-le光源波段，最小工艺制程220n。

ABM最大的客户是NASA（国航空航天局）和英特尔，因为价格相对便宜，在加上本土运输相对便捷，北美一半左右的高校和研究机构在G-le，I-le光源波段，购买的都是ABM的光刻机，在北美排名第二，排在SVG后边。

只不过ABM明确无意于更窄光源的光刻机的研发制造，本身即使在未来几十年，220n以上制程的光刻机的需求量将会保持着很大的需求量，对于ABM来说一招鲜吃遍天。

就像SVG投资大量资金搞157n工艺研发，结果搞的利润低薄，被ASML摘了桃子。

有着这么多的竞争企业，所以光刻机的价格也都是利润很高，但是还算不上太过于夸张的暴利。

直到将来步进式光刻机进入ArF，ArFi（193n，水介质），有了真正的技术壁垒，65n制程以下的步进式光刻机的暴利时代才到来。

——

这时候，机场的大喇叭响起了王渝他们乘坐的国际航班将要进场的消息，赵长安对萧扬明说道：“有几年没有见到老同学了吧？”

“在麻省理工留学的时候，还经常组织老乡会见个面，我的妻子就是那时候通过老乡会认识的。后来基本上就没怎么联系了，还是四年前她通过欧洲这边的同学找到我。”

说到四年前，萧扬明的脸上不禁露出复杂的神色。

“你那时候要是响应唐校的号召回国到校任教，说不定你就是我们微电子专业的老师了，这次也说不定我会要求你和王老师一起过来，参与这次和ASML的谈判。”

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