第216章 试產线出现铜污染隱患（1/2）
深度清洗后的国產高纯硅片试產线重新启动。巨大的白色机箱发出低沉的嗡鸣，监控屏幕上数据流开始滚动：温度22.1c，湿度39%，超纯水电阻率18.2兆欧厘米，铜离子浓度0.03ppt，低於警戒值两个数量级。
张京京站在中央控制台前，双手抱胸，紧盯著十二块分屏上的实时参数。他身后的工程师团队鸦雀无声，所有人都知道这次重启的意义：如果清洗成功，意味著他们掌握了应对铜污染的关键技术，国產硅片的量產之路就迈过了最危险的坎；如果失败……
“第一批硅片开始清洗工序。”操作员报告，声音在寂静的控制室里显得格外清晰。
屏幕上，机械臂將三片十二英寸的测试用硅片送入清洗槽。超纯水以精確控制的流速冲刷著硅片表面，超声波发生器启动，发出人耳听不见的高频振动。
“清洗液流量稳定，超声功率正常，温控在设定值±0.1c范围內。”
张京京的目光锁定在铜离子监测曲线上。那条绿色的线平稳得近乎完美，在0.02到0.04ppt之间轻微波动，这是环境本底水平，说明系统是乾净的。
清洗持续了十五分钟。按照吴文山提供的方案，这是第一步“螯合剂冲洗”的时间。
“清洗结束，开始纯水漂洗。”
硅片被转移到漂洗槽，更高纯度的水流洗去残留的化学药剂。这是最危险的环节：如果系统里还有铜污染源，漂洗过程会將其暴露无遗。
时间一秒一秒过去。
控制室里只有设备运行的嗡鸣和偶尔的按键声。
“漂洗三分钟，铜离子浓度0.05ppt。”
“漂洗五分钟，铜离子浓度0.07ppt。”
“漂洗七分钟，铜离子浓度0.11ppt。”
数据在缓慢上升，但仍在安全范围內。张京京微微鬆了口气。按照经验，如果有污染，前五分钟就会急剧飆升。
“漂洗十分钟，完成。硅片传送至乾燥区。”
机械臂平稳地將硅片送出，送入氮气乾燥舱。整个过程看起来无懈可击。
“取样检测。”张京京下令。
三片硅片中的一片被送入旁边的快速分析室。三十秒后，初步结果在大屏上弹出：
表面金属污染扫描结果
- 铁：＜0.01ppt
- 镍：＜0.01ppt
- 铜：0.09ppt
“低於0.1ppt！”控制室里爆发出压抑的欢呼。这个数值意味著硅片表面的铜污染已经控制在工艺允许范围內，可以进行后续的氧化、光刻等工序了。
张京京紧绷的肩膀终於放鬆下来。他拿起加密电话，准备向陈醒和林薇报喜。
但就在他的手指即將触到拨號键时，刺耳的警报声突然撕裂了控制室的平静。
不是一声，是接连三声。
“警报！超纯水储罐b-3铜离子浓度异常！”
“警报！主循环泵出口监测点铜离子浓度超標！”
“警报！硅片清洗槽回流管检测到脉衝式污染峰值！”
张京京猛地转身，扑到控制台前。屏幕上，三条曲线同时飆升：储罐监测点的铜离子浓度从0.05ppt瞬间跳涨到2.3ppt；主泵出口从0.07ppt飆升到1.8ppt；最诡异的是清洗槽回流管的数据，它像心电图一样剧烈波动，峰值达到5.7ppt，但谷值又迅速回落到0.2ppt以下。
脉衝式污染。
“立即停止所有水流！关闭系统阀门！”张京京吼道，“启动应急隔离程序！”
工程师们的手指在键盘上飞舞。屏幕上，一个个代表阀门状態的图標从绿色变成红色，水流被强制切断。但污染数据並没有立即下降，相反，在系统停滯后的三十秒內，几个监测点的浓度又出现了一次脉衝峰值，然后才缓缓回落。
“这……这不合理。”负责水系统的刘工程师脸色苍白，“系统已经停运，没有水流，铜离子怎么会突然出现又突然消失除非……”
“除非污染源本身能够主动释放。”张京京接话，声音冰冷。
他调出系统结构图，用红色標记出刚刚出现污染的三个点：储罐b-3、主循环泵、清洗槽回流管。这三个点在物理位置上並不相邻，中间隔著数十米的管道和多个控制阀。
“能同时污染这三个点的，只有两种可能。”张京京快速分析，“第一，整个系统都被污染了，但之前的清洗数据证明不是这样。第二……”
他在图上画了一个圈，將三个点包围起来：“有一个中央控制节点，能够同时向这三个点投放污染物。”
控制室里安静得可怕。所有人都明白这句话的含义：如果污染是“投放”而不是“泄露”，那就意味著系统里存在某种智能化的破坏装置。更可怕的是，这个装置能够根据监测系统的採样周期，精確地在採样间隔期释放污染物，脉衝式爆发的模式完美避开了在线监测仪每十五分钟一次的定点採样。
“查控制逻辑。”张京京下令，“过去一小时內，所有自动阀门的开关记录、泵的启停记录、化学药剂添加记录，全部调出来。”
数据快速滚动。五分钟过去，负责控制系统的工程师抬起头，眼神里带著难以置信：“张博士，有一组异常记录……在警报发生前两分钟，储罐b-3的氮气覆盖系统被远程关闭了三十秒，然后又自动开启。”
“氮气覆盖”张京京皱眉。超纯水储罐採用氮气覆盖是为了防止空气中的二氧化碳溶解导致ph值波动，但这和铜污染有什么关係
“关闭氮气覆盖后，储罐內部的压力平衡被打破。”刘工程师突然想到什么，“如果……如果储罐內壁的某个位置被植入了铜释放装置，在正常氮气正压下，装置是关闭的。一旦压力平衡被打破……”
“装置就会启动，释放铜离子。”张京京明白了，“但这是怎么实现的储罐是不锈钢材质，內壁光滑，怎么可能植入装置而不被发现”
他调出储罐b-3的维护记录。这个储罐是三个月前新安装的，供应商是“上海洁净容器”，一家有二十多年歷史的国企。安装前做过全面的完整性检测，包括內窥镜检查和氦气质谱检漏，都没有发现问题。
“除非装置不是『植入』，而是『喷涂』。”一个年轻的女工程师小声说，“如果在內壁喷涂一层含有微胶囊的涂层，胶囊里包裹著铜离子化合物，在特定条件下破裂……”
这个猜想太大胆，但解释了为什么检测不到物理装置。
张京京立即联繫材料分析室：“对储罐b-3做內壁取样，重点检测是否有非常规涂层。取样点就选在氮气入口附近，那里是压力变化最剧烈的区域。”
等待分析结果的时间，他再次审视整个事件的时间线：下午四点二十三分系统重启，四点四十分第一批硅片清洗完成，四点五十一分污染爆发。而在污染爆发前两分钟，氮气覆盖系统被远程关闭。
“远程关闭的命令源查到了吗”他问。
控制系统工程师调出日誌，脸色变得古怪：“命令来自……材料所內部网络，ip位址是实验室三楼的分析仪器控制终端。但那个终端今天下午没有人登录，处於待机状態。”
“被黑入了”
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