第400章 触碰式光刻机（2/2）

但刘宇很清楚，那台机器虽然是零的突破，但受限于当时的工业基础，稳定性极差，良品率更是让人想撞墙。

后来到了八十年代，因为种种原因，这条路断了。

这一断，就是几十年的仰人鼻息。

【既然我来了，这种屈辱，这辈子都不会再有。】

刘宇深吸一口气，他现在玩的是“双线并行”。

左手抓中规模集成电路的架构设计，右手抓光刻机这一底层工具的研制。

工欲善其事，必先利其器。没有光刻机，中规模集成电路就是空中楼阁，只能靠老专家们用显微镜和镊子一点点去“绣花”。

那不叫工业，那叫手工艺品。

“准备开始，第一次全流程测试。”刘宇下达了指令。

车间里瞬间安静得连针掉在地上都能听见。

几个老专家围在外面，隔着厚厚的玻璃窗，眼睛瞪得像铃铛。

他们中有人支持刘宇，觉得这是“神来之笔”；也有人私下里嘀咕，觉得刘宇是“贪大求全”，放着正经的集成电路不搞，非要弄这种虚无缥缈的机器。

“刘所长这是在赌啊。”一个老专家叹了口气，压低声音，“这台机器耗费了多少特种钢？用了多少高精度透镜？万一失败了，部里的口水都能把他淹死。”

“他赌赢过很多次了。”另一人神色复杂，“万一……这次他又赢了呢？”

刘宇没有理会外面的议论。他正亲自调整着光源。

这台光刻机，是他根据历史上“65型”的蓝图，结合后世的精密光学补偿理论优化过的魔改版。

透镜是找光学所的老院士，磨了半个月才磨出来的；机械臂的精度，是他亲自带着刘光天在车间里守了三个通宵，一点点调出来的。

“对准完成。”小王的声音有些颤抖。

“曝光预备，三、二、一，走！”

随着刘宇的一声令下，一道紫外光源瞬间穿过掩膜版，精准地投射在涂了感光胶的硅片上。

那一刻，空气仿佛凝固了。

时间在这一秒变得极其漫长。

刘宇看着控制台上的数据跳动，心里也在默默计算。

接触式光刻，最难的就是掩膜版与硅片的接触精度。一旦有微小的空隙或者偏移，整个电路就会糊成一团。

“曝光结束，进入显影程序。”

硅片被送入显影液。

所有人都屏住了呼吸。几个年轻的技术员甚至闭上了眼睛，不敢看结果。

这不仅仅是一台机器的成功，这关系到整个中规模集成电路项目能不能从“实验室”走向“生产线”。

“出……出来了！”

小王惊叫一声，甚至顾不上礼仪，直接扑到了高倍显微镜前。

他的身体剧烈地颤抖着，半天没说出一句完整的话。

“怎么样？说话啊！”外面的老专家急得拍玻璃。

小王抬起头，满脸通红，眼眶里竟然噙着泪水：“图形……完整！边缘锐度……极高！精度……精度达到了我们预设值的1.2倍！”