第353章 一纳米光刻机，联邦生产（2/2）

黎恩对这个名字可以说十分熟悉了，甚至可以说是刻在她心里的名字，光刻机。

她之前并不知道光刻机是什么，但在各个院士的科普之下便知道了光刻机对于芯片制作跟华国的重要性。

光刻机主要用来制作高级芯片，现在不管是人们使用的手机亦或是什么智能产品，基本上都需要用到芯片。

芯片也是半导体行业的重中之重，如果没有芯片的话，很多产品研发都会受到限制。

就比如黎恩他们带回来的智能机器人，虽然林院士他们已经将智能机器人研究的差不多了，但却缺少高级芯片。

如果没有高级芯片来承载智能机器人的运行，那他们也没办法制造出更加先进的光刻机。

更别说实现智能机器人的量产了。

这也是为什么智能机器人在短时间内还没有办法往外发售的原因，因为就算林院士他们已经研究出来了，也没有办法量产智能机器人。

像之前发布的各种各样智能家居电器已经是目前芯片能承载的最大力度。

并且华国的芯片产业一直受到其他国家的限制，毫不夸张的说，华国的芯片一直被其他国家捏住命运的喉咙。

其中对华国芯片造成最大阻碍的便是霉国。

半导体行业一直被看作是国家产业的核心领域，它在国家安全和经济发展方面都扮演着非常重要的角色。

但是随着华霉贸易战的升级，霉国逐渐将限制半导体进口作为压制华国半导体产业的主要手段之一。

为了限制华国的半导体产业，全球领先的光刻机制造商成为了霉国打压华国的重要工具。

芯片制程只要进入了7纳米的范围，所生产芯片用的晶元仪器就得使用这家公司的EUV光刻机。

这种光刻机的制成精度是目前最高的，也能有效的提升高端芯片产品在生产过程中的良率。

也只有这种光刻机才能对高端芯片产品进行大规模加工，增大它的产出效率。

但由于华国在这方面的基础底子比较落后，缺乏发展先进的晶片生产先进技术，所以也很难掌握这种光靠技术。

当然，从全球的角度来看，不仅是华国，而是所有国家的先进芯片制成都无法摆脱对EUV光刻机的依赖。

而霉国则是通过协议来限制该制造商光刻机出口华国的数量，导致华国国内的企业迟迟没有收到光刻机，进一步实现打压华国半导体产业的目的。

虽然现在国内也在加快进程研究高级的光刻机，但国内现在最新的光刻机技术，其光刻分辨能力达到了22纳米。

结合双重曝光技术之后，未来可以用于制造十纳米级别的芯片。

但这样的技术跟EUV光刻机技术相比，还差的有点远。

所以经过各个院士的科普后，黎恩就下定决心，若是能再一次穿越到星际世界，一定要看看有没有更高端的光刻机。

没想到还没等她找呢，光刻机就自动送上门了，还是一纳米光刻机。

要知道现实世界里最厉害的光刻机也只能做到5纳米，所有制造商都没办法实现三纳米芯片的制作，更别说是一纳米了。